同志们咱这国产光刻胶又有突破了。前几天武汉传来消息，太紫微光电推出的T150A光刻胶产品，已经通过了半导体工艺验证，并且配方是全自主设计，「有望开创新局面」。这个事怎么理解呢？首先这个T150A它是一个KrF光刻胶，这个类目其实中国早就实现了国产化。而这次它对标的产品是国际市场上陶氏的UV1610，是业内比较常规且走量的一款产品。那么定位也就比较清晰了。所以并不算是重大突破。作为突破区Up主，我这次稍微矜持一点。但这里关键点在于配方全自主设计，这是重点信息。这期视频，我们再来详细了解下光刻胶。
China's another breakthrough in photoresists! The formula is entirely self-developed! What are the technical barriers behind this chemical product?
21 окт 2024
