Тёмный

How to Spin Photoresist onto Wafers and Pieces 

The Kavli Nanoscience Institute at Caltech
Подписаться 4,5 тыс.
Просмотров 13 тыс.
50% 1

Опубликовано:

 

25 окт 2024

Поделиться:

Ссылка:

Скачать:

Готовим ссылку...

Добавить в:

Мой плейлист
Посмотреть позже
Комментарии : 4   
@Jacob-og9pz
@Jacob-og9pz 2 года назад
Bravo for this
@Ig0r1985
@Ig0r1985 Год назад
what is the material of the pipette to dipense the photoresist? Does it need to be high density polyethylene (HDPE)?
@alialhajaji7141
@alialhajaji7141 3 года назад
Thikness of film seems to be not uniform 7:12.. What reasons could lead to that?
@curian5
@curian5 2 года назад
Comet mark on the edge is caused by particle contamination. Chuck mark on center of the wafer is caused by difference in temperature due to evaporative cooling (chuck provides better thermal conductivity to chuck/wafer/photoresist stack, so center of the wafer is warmer than edges).
Далее
Lithography Tool Training lecture: Spin Coating
31:43
А вы знали что металл тонет?
00:32
Photolithography
19:08
Просмотров 45 тыс.
Design and build a spin coater
19:33
Просмотров 153 тыс.
Manual spin coater Labspin Training
13:48
Просмотров 23 тыс.
Photolithography Overview for MEMS
12:03
Просмотров 165 тыс.