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谈到芯片制造到底难在那里，光刻机和光刻胶的技术，应该说是绕不开的一个话题。这期节目我们就来聊聊光刻机的光源、反射膜、光刻胶等一系列技术要点。谈谈中国要如何突破光刻技术，EUV的必要性和技术选择。
Chapters章节 :
00:00 Intro简介
01:12 EUV光刻机的历史
04:33 EUV光刻机的难点在那里?
07:16 EUV多层膜反射镜技术
08:51 EUV光刻机的系统集成
10:29 EUV光刻机的缺点
11:50 光刻胶的难点在哪里?
13:23 End总结
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I'm Bai, an embedded BSP engineer working in Shenzhen, China. I make videos about technology, science and some quick thoughts. I also write a weekly blog that contains some tech infos and links to interesting things.
我是老白，一名在深圳工作的BSP工程师。这是我的个人频道，频道的内容主要是关于科学、科技和一些个人的观点。同时，我会在每周写一篇博客，关于一些感兴趣的科技内容。
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11 июл 2024
